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中商情报网讯：刻蚀制程位于薄膜沉积和光刻之后，目的是利用化学反应、物理反应、光学反应等方式将晶圆表面附着的不必要的物质去除，过程反复多遍，最终得到构造复杂的集成电路。按照刻蚀的工艺不同可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀。

市场规模

全球刻蚀设备领域中，硅基刻蚀主要被 Lam 和 AMAT 垄断，介质刻蚀主要被TEL和Lam垄断。2020年全球刻蚀设备市场规模约为136亿美元，同比增长23.64%。预计2022年将进一步增长至184亿美元。

数据来源：Gartner、中商产业研究院整理

竞争格局

全球刻蚀设备领域中，硅基刻蚀主要被 Lam 和 AMAT 垄断，介质刻蚀主要被TEL和Lam垄断。Lam独占47%的市场份额，TEL 和 AMAT 分别占据 27%和 17%的市场份额

数据来源：Gartner、中商产业研究院整理

更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国半导体设备行业市场前景及投资机会研究报告》，同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、产业研究报告、产业规划、园区规划、十四五规划、产业招商引资等服务。

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