得益于先进的工艺,台积电今年的营收又要创新高,即便是没有了华为这样的客户,也丝毫不受影响。

台积电昨日举行南科3nm米晶圆厂上梁典礼,董事长刘德音透露,台积电规划的3nm厂厂房基地面积约为35公顷,当3nm进入量产时,当年产能预估将超过每月60万片12寸晶圆。

刘德音还表示,台积电营收去年已经连续 10 年创下纪录,今年也将再刷新纪录,南科营收 2019 年产值高达新台币 3,800 亿元,占台积电营业额的37%,今年预估将突破新台币4400亿元。

报告显示,今年台积电营收之所以猛增,主要还是跟5nm、7nm工艺有关,因为市场需求非常的高,特别是苹果的订单,完全供应不上。

为了保持领先,台积电已经下单订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机,将会在2021年全年交付,不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。同时,明年台积电实际需求的数量可能是高达16到17台EUV光刻机。

目前,台积电使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7+以及N5节点上制造芯片,但在未来几个季度,该公司将增加N6(实际上将在2020年第四季度或2021年第一季度进入HVM)以及同样具有EUV层的N5P工艺。

台积电对EUV工具的需求正在增加是因为其技术越来越复杂,更多地方需要使用极紫外光刻工具处理。台积电的N7+使用EUV来处理最多4层,以减少制造高度复杂的电路时多图案技术的使用。